研討活動背景

　　隨著芯片的復雜程度和集成度上升、產業分工以及設計成本攀升，EDA成為集成電路產業鏈的必備自動化工具，貫穿IC設計、制造、封測等環節。盡管EDA全球市場規模僅百億美元，但作為集成電路行業的支點，其杠桿效應顯著，撬動了約五千億美元的半導體市場。

　　EDA在賦能集成電路制造研發與量產上效應顯著。隨著芯片制造工藝不斷演進，新材料、新工藝帶來的技術挑戰為下一代制造EDA技術提供新的發展機遇。光刻（lithography）是集成電路制造中相當重要的步驟。光刻是利用光化學反應（Photo-Chemical Reaction，PCR）原理把制備在掩模上的圖形通過光刻投影系統轉印至晶圓上的過程。計算光刻是使用計算機來模擬、仿真光刻工藝中光學和化學過程，從理論上探索增大光刻分辨率和工藝窗口的途徑，指導工藝參數的優化。在先進工藝中，計算光刻已經成為光刻工藝研發的核心米樂m6網址。

　　集成電路設計自動化技術(EDA)前沿技術研討活動，聯合全芯智造資深研發專家圍繞芯片制造的關鍵工藝——計算光刻OPC、良率分析及管理技術、器件與制程仿真的利器-TCAD三個系列開展研討，為大家帶來精彩分享。

　　支持單位介紹

　　全芯智造 作為專注于制造EDA軟件企業，致力于通過人工智能等新興技術賦能半導體制造業，實現由專家知識到人工智能的進化。目標打造大數據+人工智能驅動的半導體智能制造平臺。此舉將填補中國半導體制造業核心支撐軟件和智能“大腦”的空白，加快國內半導體先進工藝研發，完善自主產業鏈，助力提升中國半導體制造的國際競爭力。

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　　南京集成電路培訓基地設計自動化培訓部（EDA培訓部）圍繞企業研發過程中的實際難點和待探索創新技術的領域，以EDA工具開發、自主研發工具的示范應用為主要任務，以“集成電路EDA設計精英挑戰賽”為抓手，進行以賽促教，成立“集成電路設計自動化產教融合聯盟”進行創新機制探索，共同推進EDA課程體系和人才培養體系建設。

　　聯系方式

　　王老師

　　18761808089

　　wangjing@icisc.cn

　　濮老師

　　13951036455

　　purui @icisc.cnEND

　　素材來源丨寧集學堂

　　編輯丨徐光宇

　　審核丨胡曉靚米樂M6

　　發布丨徐光宇

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